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近年来，国内外在抛光机的性能上作了大量的研究工作，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动操作发展成 为各种各样的半自动及全自动抛光机。
自动抛光机由底座、抛盘、抛光织物、抛光罩及盖等基本元件组成，抛光时，要注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。
在操作的过程中，关键是要设法得到{zd0}的抛光速率，以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响最终观察到的组织，即不会zcj组织。
自动抛光机连续工作时间过长时，抛光辊摩擦生热温度高，易ts革面，需降温后再操作。
在抛光过程中加入的抛光液可通过固定在底座上的塑料盘中的排水管流入置于抛光机旁的方盘内。抛光罩及盖可防止灰土及其他杂物在机器不使用时落在抛光织物上而影响使用效果。
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